Nos processos oxidativos avançados homogêneos, não é necessária a presença de catalisadores sólidos, e a degradação do composto poluente pode ser realizada por dois mecanismos:
a. Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela conversão do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
b. Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
c. Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Consumo do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser consumidos pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
d. Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela conversão do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Destruição do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser destruídos pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
e. Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Consumo do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
Resposta: Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
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Resposta:
Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
Explicação:
conforme modulo do curso
Resposta: Fotólise direta com U.V.: onde o comprimento de onda U.V. é o responsável pela destruição do composto poluente, porém esse método possui baixa eficiência quando comparado ao processo de geração de OH-. Geração do radial OH-: ocorre devido à presença de oxidantes fortes, como o H2O2 e O3 na presença ou não de irradiação U.V. Os radicais OH- podem ser gerados pela oxidação eletroquímica, radiólise, feixe de elétrons e plasma.
Explicação: